光的折射與衍射區別

　　光的折射與衍射區別:

　　光的折射是因為光的粒子特性，用的是斯涅爾定理，除了在分介面上折一下，其他都是直線傳播的，用的是光的粒子特性；光的衍射是因為光的波動特性，用的是基爾霍夫衍射積分，除了在衍射邊界，在其後面各個地方都有偏折，偏折角度不一，即光繞過障礙物。

　　用測量顯微鏡來測量光柵常數．根據光柵衍射方程 φ＝λ知道，光柵常數與衍射角地正弦φ成反比。

　　光柵常數，是光柵兩刻線之間的距離，用d表示，是光柵的重要引數。通常所講的衍射光柵是基於夫琅禾費多縫衍射效應工作的。描述光柵結構與光的入射角和衍射角之間關係的公式叫“光柵方程”。

　　衍射角為波進行衍射時，其在行進方向線與法線之間的角度。通常只有光之類的線形波長才會有，且為多重角度，此現象與光的波動性有關。每個縫衍射在衍射角相同的地方有相同的條紋。

　　飽和光電流與入射光強的關係是：

　　1、當入射光頻率不變時，飽和光電流的值與入射光強度成正比。原因很簡單，入射光強度與單位時間照射到金屬上的光子數成正比。光子數的變化導致單位時間內吸收光子的電子數變化，故飛出的光電子數變化，導致電流的變化。

　　2、當入射光強度不變時，飽和光電流隨入射光頻率的增大而增大。這個理解起來比較難。可以這麼想：光強不變，單位時間內有10個光子被電子吸收，吸收後所形成的10個光電子並不是全部從金屬表面飛出。靠近金屬表面的電子受到金屬內原子核的束縛比較弱，故很容易飛出，但內部的就不一定，所以，這10個電子可能只有6個能飛出金屬形成光電流。如果在入射光強度不變的情況下增大入射光的頻率，雖然還是有10個光子被10個電子吸收形成光電子，但這10個光電子的能量比較大，所以，能夠脫離金屬內原子核束縛的能力比較強。這樣，可能就會有8個電子能飛出金屬形成光電流，這樣的話，很顯然飽和光電流會增大。