地球臭氧層破壞的主要原因是什麼

　　地球臭氧層破壞的主要原因是過多地使用氯氟烴類化學物質，氯氟烴是一種人造化學物質，1930年由美國的杜邦公司投入生產，在第二次世界大戰後，尤其是進入60年以後開始大量使用，主要用作氣溶膠、製冷劑、發泡劑等。氯氟烴在低層大氣平流層中，由於強烈的太陽光的作用，氧經過光化學反應後生成臭氧。平流層中的臭氧是日光中短波紫外線的天然過濾器，如果臭氧層被破壞，強烈的紫外線將直接照射到地面上，使地球上的生物受到不同程度的傷害。

　　1、人類過多地使用氯氟烴類化學物質（用CFCs表示）是臭氧層被破壞的主要原因。氯氟烴是一種人造化學物質。在第二次世界大戰後，尤其是進入20世紀60年代以後，氯氟烴大量用作氣溶膠、製冷劑、發泡劑、化工溶劑等。

　　2、另外，哈龍類物質（用於滅火器）、氮氧化物也會造成臭氧層的損耗。

　　3、發展中國家必須於2005年之前將氟氯烴的排放量凍結在1995－1997年的平均數量上，而發達國家已於1996年間基本停止使用這些消耗臭氧層的主要物質。

　　4、因此，必須積極尋找新的製冷工質來代替氯氟烴類物質，世界各國已經進行了許多新的嘗試，主要是應用兩類製冷劑和確定三個發展方向。

　　人類對自然不合理的利用，工農業發展帶來的環境汙染等都是人類對生態平衡的破壞因素主要有以下幾方面：

　　改變物種有意無意造成物種的消失或引入物種；環境因素的改變大量汙染物質進入環境；資訊交流系統的破壞破壞生物釋放的驅趕天敵、排斥異種、吸引異性等的資訊素。