氫氣還原氧化銅各裝置的作用

　　氫氣還原氧化銅各裝置的作用：

　　1、氫氣還原氧化銅的實驗中，一般是一邊製取氣體一邊還原氧化銅，同時剩餘的氫氣還可以回收利用；

　　2、因此一般情況下，最左邊的是氫氣發生裝置和乾燥氫氣裝置，然後是氧化銅 的還原裝置，最後還可以接一個尾氣處理裝置。

　　1、氫氣還原氧化銅的化學方程式為H2 + CuO= Cu + H2O。反應現象為黑色粉末逐漸變成光亮的紅色物質，同時試管口有水滴生成。

　　2、現象：黑色粉末逐漸變成光亮的紅色物質，同時試管口有水滴生成。

　　（1）在該反應中,氧化銅發生還原反應,它被還原，判斷的依據是氧化銅失去氧而變成銅單質，含氧物質裡的氧被奪去的反應是還原反應。

　　（2）在該反應中,氫氣奪取氧化銅裡的氧,跟它化合成水。氫氣發生氧化反應,物質跟氧結合的反應是氧化反應。

　　氫氣還原氧化銅的步驟為：

　　1、先檢驗氫氣的純度，防止氫氣不純實驗時引起爆炸；

　　2、通入氫氣，排淨試管內原有空氣，防止氫氣和空氣的混合氣體加熱時發生爆炸；

　　3、加熱氧化銅，觀察到由黑變紅時停止加熱；

　　4、繼續通氫氣至試管冷卻為止，防止生成的銅再次被實驗室用氫氣還原氧化銅先向試管裡通入氫氣，再加熱氧化銅當氧化銅全部還原為銅停止加熱，但需繼續通氫氣直到試管冷卻到常溫，然後停止通氫氣。注意每個步驟的注意事項，並且各個步驟不能顛倒。