臭氧層破壞的原因

　　1、人類過多地使用氯氟烴類化學物質（用CFCs表示）是臭氧層被破壞的主要原因。氯氟烴是一種人造化學物質。在第二次世界大戰後，尤其是進入20世紀60年代以後，氯氟烴大量用作氣溶膠、製冷劑、發泡劑、化工溶劑等。

　　2、另外，哈龍類物質（用於滅火器）、氮氧化物也會造成臭氧層的損耗。

　　3、發展中國家必須於2005年之前將氟氯烴的排放量凍結在1995－1997年的平均數量上，而發達國家已於1996年間基本停止使用這些消耗臭氧層的主要物質。

　　4、因此，必須積極尋找新的製冷工質來代替氯氟烴類物質，世界各國已經進行了許多新的嘗試，主要是應用兩類製冷劑和確定三個發展方向。

　　地球臭氧層破壞的主要原因是過多地使用氯氟烴類化學物質，氯氟烴是一種人造化學物質，1930年由美國的杜邦公司投入生產，在第二次世界大戰後，尤其是進入60年以後開始大量使用，主要用作氣溶膠、製冷劑、發泡劑等。氯氟烴在低層大氣平流層中，由於強烈的太陽光的作用，氧經過光化學反應後生成臭氧。平流層中的臭氧是日光中短波紫外線的天然過濾器，如果臭氧層被破壞，強烈的紫外線將直接照射到地面上，使地球上的生物受到不同程度的傷害。

　　1、過多地使用氯氟烴類化學物質(用CFCs表示)是破壞臭氧層的主要原因。

　　2、CFCs(英文全稱Chloro-fluoro-carbon）為氯氟烴的英文縮寫，是20世紀30年代初發明並且開始使用的一種人造的含有氯、氟元素的碳氫化學物質，在人類的生產和生活中還有不少的用途。

　　3、氯氟烴有個特點：它在地球表面很穩定，可是，一躥到距地球表面15～50千米的高空，受到紫外線的照射，就會生成新的物質和氯原子（氯自由基），氯原子可產生一系列破壞多達上千到十萬個臭氧分子的反應，而本身不受損害。這樣，臭氧層中的臭氧被消耗得越來越多，臭氧層變得越來越薄，區域性區域例如南極上空甚至出現臭氧層空洞。