當金屬收到光照的時候，就會有光電效應，當光在進行照射的時候，如果有一定的功率和強度，那麼就會有光電流，因此也就存在著最大光電流，那麼飽和光電流與什麼有關呢？飽和光電流與射光強度、射光頻率有關。光強是一定的，那些頻率比較大的光單位面積的光子數就比較少了，因此光子數量也比較少，所以頻率如果越大的話，那麼飽和光電流的數值就越小了。射光頻率方面頻率一樣的，光飽和光電流就和光強成正比了。其中的原因還是比較簡單的，入射光強度和單位時間照射到金屬上面的光子數成正比。
當金屬收到光照的時候，就會有光電效應，當光在進行照射的時候，如果有一定的功率和強度，那麼就會有光電流，因此也就存在著最大光電流，那麼飽和光電流與什麼有關呢？飽和光電流與射光強度、射光頻率有關。光強是一定的，那些頻率比較大的光單位面積的光子數就比較少了，因此光子數量也比較少，所以頻率如果越大的話，那麼飽和光電流的數值就越小了。射光頻率方面頻率一樣的，光飽和光電流就和光強成正比了。其中的原因還是比較簡單的，入射光強度和單位時間照射到金屬上面的光子數成正比。
飽和光電流與入射光強的關係是：
1、當入射光頻率不變時，飽和光電流的值與入射光強度成正比。原因很簡單，入射光強度與單位時間照射到金屬上的光子數成正比。光子數的變化導致單位時間內吸收光子的電子數變化，故飛出的光電子數變化，導致電流的變化。
2、當入射光強度不變時，飽和光電流隨入射光頻率的增大而增大。這個理解起來比較難。可以這麼想：光強不變，單位時間內有10個光子被電子吸收，吸收後所形成的10個光電子並不是全部從金屬表面飛出。靠近金屬表面的電子受到金屬內原子核的束縛比較弱，故很容易飛出，但內部的就不一定，所以，這10個電子可能只有6個能飛出金屬形成光電流。如果在入射光強度不變的情況下增大入射光的頻率，雖然還是有10個光子被10個電子吸收形成光電子，但這10個光電子的能量比較大，所以，能夠脫離金屬內原子核束縛的能力比較強。這樣，可能就會有8個電子能飛出金屬形成光電流，這樣的話，很顯然飽和光電流會增大。
飽和電流只與入射光的強度有關，與外加電壓無任何關係，我們也從不強調飽和電流與入射光頻率的關係。我們只在談遏止電壓與截止頻率時才談頻率問題，入射光越強，單位時間內發射的光電子數越多。
當入射光頻率不變時，飽和光電流的值與入射光強度成正比。原因很簡單，入射光強度與單位時間照射到金屬上的光子數成正比。光子數的變化導致單位時間內吸收光子的電子數變化，故飛出的光電子數變化，導致電流的變化。
當入射光強度不變時，飽和光電流隨入射光頻率的增大而增大。這個理解起來比較難。可以這麼想:光強不變，單位時間內有10個光子被電子吸收，吸收後所形成的10個光電子並不是全部從金屬表面飛出。靠近金屬表面的電子受到金屬內原子核的束縛比較弱，故很容易飛出，但內部的就不一定，所以，這10個電子可能只有6個能飛出金屬形成光電流。如果在入射光強度不變的情況下增大入射光的頻率，雖然還是有10個光子被10個電子吸收形成光電子，但這10個光電子的能量比較大，所以，能夠脫離金屬內原子核束縛的能力比較強。這樣，可能就會有8個電子能飛出金屬形成光電流，這樣的話，很顯然飽和光電流會增大。