三氟化氯的危害

　　1、三氟化氯是一種很強的氧化劑和氟化劑，能和大多數有機和無機材料甚至塑膠反應，使許多材料不接觸火源就燃燒。這些反應通常很劇烈，在某些情況下甚至會爆炸；

　　2、與一些金屬反應生成氯化物和氟化物。如與磷反應生成三氯化磷和五氟化磷，而與硫反應生成二氯化硫和四氟化硫；

　　3、與水劇烈反應產生有毒物質；

　　4、對含氧材料有腐蝕性。

　　三角雙錐型。

　　三氟化氯中心是氯原子，氯外層7個電子，其中三個和氟原子生成共價鍵，因此有三對成鍵電子對；剩餘四個電子是兩對孤對電子，故有兩對孤對電子。一共五對價電子對，雜化軌道空間構型應為三角雙椎型。

　　三角雙椎中，三對價電子對應T形分佈，故三氟化氯分子有極性。

　　三氟化氮有毒，屬於低毒物質。

　　三氟化氮在常溫下是一種無色、無臭、性質穩定的氣體，是一種強氧化劑。三氟化氮在微電子工業中作為一種優良的等離子蝕刻氣體，在離子蝕刻時裂解為活性氟離子，這些氟離子對矽和鎢化合物，高純三氟化氮具有優異的蝕刻速率和選擇性（對氧化矽和矽），它在蝕刻時，在蝕刻物表面不留任何殘留物，是非常良好的清洗劑，同時在晶片製造、高能鐳射器方面得到了大量的運用。

　　三氟化氮的用途：

　　三氟化氮主要用途是用作氟化氫－氟化氣高能化學鐳射器的氟源。三氟化氮是微電子工業中一種優良的等離子蝕刻氣體，對矽和氮化矽蝕刻，採用三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳與氧氣的混合氣體有更高的蝕刻速率和選擇性，而且對錶面無汙染，尤其是在厚度小於１.５微米的積體電路材料的蝕刻中，三氟化氮具有非常優異的蝕刻速率和選擇性，在被蝕刻物表面不留任何殘留物，同時也是非常良好的清洗劑。隨著奈米技術的發展和電子工業大規模的發展技術，它的需求量將日益增加。