三氟化硼分子為什麼非極性

　　三氟化硼分子為非極性的原因如下：

　　三氟化硼分子偶極矩為0，且原子間以共價鍵結合，分子裡電荷分佈均勻，正負電荷中心重合的分子，分子中各鍵全部為非極性鍵，所以三氟化硼分子是非極性分子，當一個分子中各個鍵完全相同，都為極性鍵，但分子的構型是對稱的，則分子是非極性。

　　三氟化硼又稱之為氟化硼，為無機化合物，無色氣體，有窒息性，在空氣中遇溼氣立即水解，分解時生成劇毒的氟化物煙霧，氟硼酸根離子是非配位陰離子，且實驗室中常以液態的三氟化硼乙醚合物作為三氟化硼的來源，可以由三氧化二硼或硼酸鹽與氟化氫反應制備，用於製造火箭的高能燃料。

　　三氟化氮有毒，屬於低毒物質。

　　三氟化氮在常溫下是一種無色、無臭、性質穩定的氣體，是一種強氧化劑。三氟化氮在微電子工業中作為一種優良的等離子蝕刻氣體，在離子蝕刻時裂解為活性氟離子，這些氟離子對矽和鎢化合物，高純三氟化氮具有優異的蝕刻速率和選擇性（對氧化矽和矽），它在蝕刻時，在蝕刻物表面不留任何殘留物，是非常良好的清洗劑，同時在晶片製造、高能鐳射器方面得到了大量的運用。

　　三氟化氮的用途：

　　三氟化氮主要用途是用作氟化氫－氟化氣高能化學鐳射器的氟源。三氟化氮是微電子工業中一種優良的等離子蝕刻氣體，對矽和氮化矽蝕刻，採用三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳與氧氣的混合氣體有更高的蝕刻速率和選擇性，而且對錶面無汙染，尤其是在厚度小於１.５微米的積體電路材料的蝕刻中，三氟化氮具有非常優異的蝕刻速率和選擇性，在被蝕刻物表面不留任何殘留物，同時也是非常良好的清洗劑。隨著奈米技術的發展和電子工業大規模的發展技術，它的需求量將日益增加。

　　三氯化磷熔點為負93、6攝氏度，在空氣中可生成鹽酸霧。對皮膚、粘膜有刺激腐蝕作用。短期內吸入大量蒸氣可引起上呼吸道刺激症狀，出現咽喉炎、支氣管炎，嚴重者可發生喉頭水腫致窒息、肺炎或肺水腫。皮膚及眼接觸，可引起刺激症狀或灼傷。嚴重眼灼傷可致失明。慢性影響：長期低濃度接觸可引起眼及呼吸道刺激症狀。可引起磷毒性口腔病。

　　三氟化磷熔點為負151、5攝氏度，中文別名為氟化磷。為白色固體，儲存於密閉於陰涼乾燥環境中。