三角雙錐型。
三氟化氯中心是氯原子，氯外層7個電子，其中三個和氟原子生成共價鍵，因此有三對成鍵電子對；剩餘四個電子是兩對孤對電子，故有兩對孤對電子。一共五對價電子對，雜化軌道空間構型應為三角雙椎型。
三角雙椎中，三對價電子對應T形分佈，故三氟化氯分子有極性。
1、三氟化氯是一種很強的氧化劑和氟化劑，能和大多數有機和無機材料甚至塑膠反應，使許多材料不接觸火源就燃燒。這些反應通常很劇烈，在某些情況下甚至會爆炸；
2、與一些金屬反應生成氯化物和氟化物。如與磷反應生成三氯化磷和五氟化磷，而與硫反應生成二氯化硫和四氟化硫；
3、與水劇烈反應產生有毒物質；
4、對含氧材料有腐蝕性。
三氟化氮有毒，屬於低毒物質。
三氟化氮在常溫下是一種無色、無臭、性質穩定的氣體，是一種強氧化劑。三氟化氮在微電子工業中作為一種優良的等離子蝕刻氣體，在離子蝕刻時裂解為活性氟離子，這些氟離子對矽和鎢化合物，高純三氟化氮具有優異的蝕刻速率和選擇性（對氧化矽和矽），它在蝕刻時，在蝕刻物表面不留任何殘留物，是非常良好的清洗劑，同時在晶片製造、高能鐳射器方面得到了大量的運用。
三氟化氮的用途：
三氟化氮主要用途是用作氟化氫－氟化氣高能化學鐳射器的氟源。三氟化氮是微電子工業中一種優良的等離子蝕刻氣體，對矽和氮化矽蝕刻，採用三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳與氧氣的混合氣體有更高的蝕刻速率和選擇性，而且對錶面無汙染，尤其是在厚度小於１.５微米的積體電路材料的蝕刻中，三氟化氮具有非常優異的蝕刻速率和選擇性，在被蝕刻物表面不留任何殘留物，同時也是非常良好的清洗劑。隨著奈米技術的發展和電子工業大規模的發展技術，它的需求量將日益增加。
常見的分子的空間構型有四面體型、三角錐型、直線型、平面型。
把配位原子按相應的幾何構型排布在中心原子周圍，每一對電子連線一個配位原子，剩下的未與配位原子結合的電子對便是孤對電子。含有孤電子對的分子幾何構型不同於價電子的排布，孤電子對所處的位置不同，分子空間構型也不同，但孤電子對總是處於斥力最小的位置， ...
三氯化磷熔點為負93、6攝氏度，在空氣中可生成鹽酸霧。對皮膚、粘膜有刺激腐蝕作用。短期內吸入大量蒸氣可引起上呼吸道刺激症狀，出現咽喉炎、支氣管炎，嚴重者可發生喉頭水腫致窒息、肺炎或肺水腫。皮膚及眼接觸，可引起刺激症狀或灼傷。嚴重眼灼傷可致失明。慢性影響：長期低濃度接觸可引起眼及呼吸道刺激症狀。可引起磷毒性 ...
碘三離子主要指三碘陰離子I₃⁻，是一種由3個碘原子構成的多碘離子。含有這種離子的化合物有三碘化鉈和三碘化銨([NH4][I3])。這些化合物中只有單個對應的碘離子
離子是指原子由於自身或外界的作用而失去或得到一個或幾個電子使其達到最外層電子數為8個或2個的穩定結構。這一過程稱為電離。電離過程所需或放出 ...
一氟化氯是氯元素的一種氟化物，常溫常壓下為無色氣體。基本資訊。熔點負155點6攝氏度，沸點負100點8攝氏度，臨界點負14攝氏度。液態時呈微黃色，對皮膚，眼睛等有強腐蝕性。化學性質。一氟化氯能與水劇烈反應。一氟化氯也是很好的氟化劑，能與鎢、硒等的單質反應生成氟化物和氯氣。一氟化氯接觸有機物會突然燃燒，可立 ...
三氟化硼分子為非極性的原因如下：
三氟化硼分子偶極矩為0，且原子間以共價鍵結合，分子裡電荷分佈均勻，正負電荷中心重合的分子，分子中各鍵全部為非極性鍵，所以三氟化硼分子是非極性分子，當一個分子中各個鍵完全相同，都為極性鍵，但分子的構型是對稱的，則分子是非極性。
三氟化硼又稱之為氟化硼，為無機化合物， ...
碳酸根離子的幾何構型是平面正三角形。碳酸根、硝酸根、互為等電子體，所以他們都是平面正三角形。
碳酸根離子，相對分子質量60。雖然含碳，但含碳酸根的物質卻多是無機物。碳酸根是一種弱酸根，在水中很容易水解產生碳酸氫根離子和氫氧根離子，從而使水偏向鹼性。 ...
no2的空間幾何構型為V型，NO₂的孤電子對=（5-2*2）/2=0.5。
計算出來的孤電子對不是整數，這時應當作1來對待，因為單電子也要佔據一個孤對電子軌道。NO2的價層電子對=2+1，所以NO₂的VSEPR模型為平面三角形。
二氧化氮是大π鍵結構的典型分子。大π鍵含有四個電子，其中兩個進入成鍵 ...