中國光刻機的新突破

　　1、晶片設計的研究與開發離不開光刻機，特別是具有先進工藝技術的晶片。但ASML是全球先進平版印刷市場之上的巨頭。此前，中芯國際還花了很多錢購買了一臺先進的平版印刷機。但由於美國的原因，ASML光刻機無法順利進入中國，這也給我國7Nm及更先進的工藝技術晶片的發展帶來了更嚴峻的挑戰。要知道，我國目前的量產光刻機還處於90nm的階段，比ASML光刻機落後了十多年。可見差距之大，也說明我國加強光刻機建設刻不容緩。

　　2、最近傳來的好訊息是，光刻機的問題可以得到有效的解決。據悉，上海微電子有限公司在紫外光源的幫助之下，成功實現了22nm的突破，推動了國產光刻機的發展，向前邁進了一大步。一旦技術成熟，意味著22nm光刻機將在中國問世，這將推動國產晶片的進一步發展，同時也給其他平版印刷廠家帶來了信心，這將有助於推動更多的廠家共同打造國產光刻機，提高中國在國際市場之上的競爭力。

　　3、雖然我國在光刻領域取得了新的進展，但國內光刻生產所需的零部件仍需從國外市場進口。顯然，在平版印刷的生產過程之中，中國仍然嚴重依賴外國。然而，無論多麼困難，中國企業都不能放棄。光刻機的自主研發是一個漫長的過程。未來，我們需要不斷努力，掌握自己手中的核心技術和供應鏈。希望今後國產光刻機能在國際市場之上取得更好的成績，使國產晶片能夠立足於全球市場。

　　1、基本上的理科大學都有這個專業，只不過大學不一樣，專業知識也不一樣。

　　2、光刻機屬於一個各學科整合的產品，泛泛而言，設計到光學、機械加工、電子電路、化學等多個學科知識。

　　3、光刻機（Mask Aligner) 又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等。常用的光刻機是掩膜對準光刻，所以叫 Mask Alignment System。

　　4、一般的光刻工藝要經歷矽片表面清洗烘乾、塗底、旋塗光刻膠、軟烘、對準曝光、後烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序。

　　5、Photolithography（光刻） 意思是用光來製作一個圖形（工藝）。在矽片表面勻膠，然後將掩模版上的圖形轉移光刻膠上的過程將器件或電路結構臨時“複製”到矽片上的過程。

　　佳能光刻機22奈米，光刻機是製造微機電、光電、二極體大規模積體電路的關鍵裝置。光刻機可以分鐘兩種，分別是模板和圖樣大小一致的contactaligner，曝光時模板緊貼晶片；第二是類似投影機原理的stepper，獲得比模板更小的曝光圖樣。

　　國內目前做光刻機的主要有上海微電子裝備有限公司、中子科技集團公司第四十五研究所國電、合肥芯碩半導體有限公司、先騰光電科技、無錫影速半導體科技。其中，上海微電子裝備有限公司已經量產的是90奈米，這是在中國最領先的技術。其國家科技重大專項“極大規模積體電路製造裝備與成套工藝專項“的65nm光刻機研製，目前正在進行整機考核。對於光刻機技術來說，90奈米是一個技術臺階；45奈米是一個技術臺階；22奈米是一個技術臺階……90奈米的技術升級到65奈米不難，但是45奈米要比65奈米難多了。路要一步一步走，中國16個重大專項中的02專項提出光刻機到2020年出22奈米的。目前主流的是45奈米，而32奈米和28奈米的都需要深紫外光刻機上面改進升級。