1、光刻機可以分為用於生產晶片、用於封裝和用於LED製造。按照光源和發展前後，依次可分為紫外光源（UV）、深紫外光源(DUV)、極紫外光源（EUV），光源的波長影光刻機的工藝。光刻機可分為接觸式光刻、直寫式光刻、投影式光刻。
2、原理：接近或接觸式光刻透過無限靠近，複製掩模板上的圖案；直寫式光刻是將光束聚焦為一點，透過運動工件臺或鏡頭掃描實現任意圖形加工。投影式光刻光刻因其高效率、無損傷的優點，是積體電路主流光刻技術。
1、光刻機可以分為用於生產晶片、用於封裝和用於LED製造。按照光源和發展前後，依次可分為紫外光源（UV）、深紫外光源(DUV)、極紫外光源（EUV），光源的波長影光刻機的工藝。光刻機可分為接觸式光刻、直寫式光刻、投影式光刻。
2、原理：接近或接觸式光刻透過無限靠近，複製掩模板上的圖案；直寫式光刻是將光束聚焦為一點，透過運動工件臺或鏡頭掃描實現任意圖形加工。投影式光刻光刻因其高效率、無損傷的優點，是積體電路主流光刻技術。
1、光刻機制作晶片的過程，基本和“沖印照片”一樣。假設拍的是風景，膠片上會有曝光痕跡，先要在暗室裡顯影，讓風景在膠片上顯示出來。然後在紅光下透過放大機，把膠片上的風景投射到相紙上，讓相紙曝光。再透過相紙的顯影、定影、烘乾得到最終的照片。除了風景之外，“照片沖印”需要有膠片，有光源、放大機、相紙。
2、對光刻機來說，所謂“風景”就是設計好的積體電路圖（IC），“膠片”就是一塊石英板（光罩），用來記錄積體電路圖，“相紙”就是矽晶圓，“放大機”就相當於光刻機。
3、所不同的是，洗照片是放大，把小膠片放大到相紙上，光刻機是縮小，把電路圖縮小到晶圓上。
4、在光刻機領域，有三家國際大牌：荷蘭ASML（艾斯摩爾），日本Nikon（尼康），日本Canon（佳能）。但高階光刻機市場，荷蘭ASML是無可爭議的世界霸主，把第二名都甩得很遠，因為技術難度太高、需要的投資太大，尼康、佳能已經放棄EUV光刻機的研發。
1、光刻機制作晶片的過程，基本和“沖印照片”一樣。假設拍的是風景，膠片上會有曝光痕跡，先要在暗室裡顯影，讓風景在膠片上顯示出來。然後在紅光下透過放大機，把膠片上的風景投射到相紙上，讓相紙曝光。再透過相紙的顯影、定影、烘乾得到最終的照片。除了風景之外，“照片沖印”需要有膠片，有光源、放大機、相紙。
2、對光刻機來說，所謂“風景”就是設計好的積體電路圖（IC），“膠片”就是一塊石英板（光罩），用來記錄積體電路圖，“相紙”就是矽晶圓，“放大機”就相當於光刻機。
3、所不同的是，洗照片是放大，把小膠片放大到相紙上，光刻機是縮小，把電路圖縮小到晶圓上。
4、在光刻機領域，有三家國際大牌：荷蘭ASML（艾斯摩爾），日本Nikon（尼康），日本Canon（佳能）。但高階光刻機市場，荷蘭ASML是無可爭議的世界霸主，把第二名都甩得很遠，因為技術難度太高、需要的投資太大，尼康、佳能已經放棄EUV光刻機的研發。