佳能光刻機多少奈米

　　佳能光刻機22奈米，光刻機是製造微機電、光電、二極體大規模積體電路的關鍵裝置。光刻機可以分鐘兩種，分別是模板和圖樣大小一致的contactaligner，曝光時模板緊貼晶片；第二是類似投影機原理的stepper，獲得比模板更小的曝光圖樣。

　　國內目前做光刻機的主要有上海微電子裝備有限公司、中子科技集團公司第四十五研究所國電、合肥芯碩半導體有限公司、先騰光電科技、無錫影速半導體科技。其中，上海微電子裝備有限公司已經量產的是90奈米，這是在中國最領先的技術。其國家科技重大專項“極大規模積體電路製造裝備與成套工藝專項“的65nm光刻機研製，目前正在進行整機考核。對於光刻機技術來說，90奈米是一個技術臺階；45奈米是一個技術臺階；22奈米是一個技術臺階……90奈米的技術升級到65奈米不難，但是45奈米要比65奈米難多了。路要一步一步走，中國16個重大專項中的02專項提出光刻機到2020年出22奈米的。目前主流的是45奈米，而32奈米和28奈米的都需要深紫外光刻機上面改進升級。

　　光刻機又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等。常用的光刻機是掩膜對準光刻，所以叫MaskAlignmentSystem。目前，世界上能製造光刻機的國家有荷蘭、日本、德國和中國。

　　目前能製造高階光刻機的廠家有：荷蘭ASML，日本Nikon，日本Canon，以及上海微電子裝備和德國的歐泰克。

　　目前能製造高階光刻機的好像只有中國，荷蘭（鏡頭來自德國）和日本。光刻機又稱掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等，一般的光刻工藝要經歷矽片表面清洗烘乾、塗底、旋塗光刻膠、軟烘、對準曝光、後烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序。光刻機號稱世界上最精密的儀器，世界上已有7000萬美金的光刻機，堪稱現代光學工業之花，其製造難度之大，全世界只有少數幾家公司能夠製造。