入射光強度與光電子數量有關,入射光又稱入射光線。是照射到發生反射或折射臨介面上的光線。光反射時,反射光線,入射光線和法線在同一平面內,反射光線、入射光線分居在法線的兩側,反射角等於入射角。
光電子學是指光波波段,即紅外線、可見光、紫外線和軟X射線(頻率範圍3×1011Hz~3×1016Hz或波長範圍1mm~10nm)波段的電子學。光電子技術在經過80年代與其相關技術相互交叉滲透之後,90年代,其技術和應用取得了飛速發展,在社會資訊化中起著越來越重要的作用。
入射光強度與光電子數量有關,入射光又稱入射光線。是照射到發生反射或折射臨介面上的光線。光反射時,反射光線,入射光線和法線在同一平面內,反射光線、入射光線分居在法線的兩側,反射角等於入射角。
光電子學是指光波波段,即紅外線、可見光、紫外線和軟X射線(頻率範圍3×1011Hz~3×1016Hz或波長範圍1mm~10nm)波段的電子學。光電子技術在經過80年代與其相關技術相互交叉滲透之後,90年代,其技術和應用取得了飛速發展,在社會資訊化中起著越來越重要的作用。
1、入射光的強度理解為單位時間內入射光子數的多少,而不能理解為是單位時間內沿光傳播方向單位截面積上所透過的能量。
2、入射光的強度指單位時間內沿光傳播方向單位橫截面積透過的能量 ,即I等於nhv,其中n和v分別為單位時間內沿光傳播方向單位橫截面積透過的光子數和光子的頻率 ,光的強度與n有關,也與ν有關。
飽和光電流與入射光強的關係是:
1、當入射光頻率不變時,飽和光電流的值與入射光強度成正比。原因很簡單,入射光強度與單位時間照射到金屬上的光子數成正比。光子數的變化導致單位時間內吸收光子的電子數變化,故飛出的光電子數變化,導致電流的變化。
2、當入射光強度不變時,飽和光電流隨入射光頻率的增大而增大。這個理解起來比較難。可以這麼想:光強不變,單位時間內有10個光子被電子吸收,吸收後所形成的10個光電子並不是全部從金屬表面飛出。靠近金屬表面的電子受到金屬內原子核的束縛比較弱,故很容易飛出,但內部的就不一定,所以,這10個電子可能只有6個能飛出金屬形成光電流。如果在入射光強度不變的情況下增大入射光的頻率,雖然還是有10個光子被10個電子吸收形成光電子,但這10個光電子的能量比較大,所以,能夠脫離金屬內原子核束縛的能力比較強。這樣,可能就會有8個電子能飛出金屬形成光電流,這樣的話,很顯然飽和光電流會增大。