三氟化氮有毒，屬於低毒物質。
三氟化氮在常溫下是一種無色、無臭、性質穩定的氣體，是一種強氧化劑。三氟化氮在微電子工業中作為一種優良的等離子蝕刻氣體，在離子蝕刻時裂解為活性氟離子，這些氟離子對矽和鎢化合物，高純三氟化氮具有優異的蝕刻速率和選擇性（對氧化矽和矽），它在蝕刻時，在蝕刻物表面不留任何殘留物，是非常良好的清洗劑，同時在晶片製造、高能鐳射器方面得到了大量的運用。
三氟化氮的用途：
三氟化氮主要用途是用作氟化氫－氟化氣高能化學鐳射器的氟源。三氟化氮是微電子工業中一種優良的等離子蝕刻氣體，對矽和氮化矽蝕刻，採用三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳與氧氣的混合氣體有更高的蝕刻速率和選擇性，而且對錶面無汙染，尤其是在厚度小於１.５微米的積體電路材料的蝕刻中，三氟化氮具有非常優異的蝕刻速率和選擇性，在被蝕刻物表面不留任何殘留物，同時也是非常良好的清洗劑。隨著奈米技術的發展和電子工業大規模的發展技術，它的需求量將日益增加。
三氟化氮，化學式ＮＦ3，常溫下是一種無色、無臭、性質穩定的氣體，是一種強氧化劑。三氟化氮在微電子工業中作為一種優良的等離子蝕刻氣體，在離子蝕刻時裂解為活性氟離子，這些氟離子對矽和鎢化合物，高純三氟化氮具有優異的蝕刻速率和選擇性（對氧化矽和矽），它在蝕刻時，在蝕刻物表面不留任何殘留物，是非常良好的清洗劑，同時在晶片製造、高能鐳射器方面得到了大量的運用。三氟化氮是低毒性物質，但是它能強烈刺激眼睛、皮膚和呼吸道粘膜，腐蝕組織。吸入高濃度ＮＦ３可引起頭痛、嘔吐和腹瀉。長期吸入低濃度ＮＦ３能損傷牙齒和骨骼，使牙齒生黃斑，骨骼成畸形。與還原劑能發生強烈反應，引起燃燒爆炸。
沒毒。特氟龍塗層，也就是聚四氟乙烯的分解溫度為３５０℃，而正常炒菜溫度其實也就在２００℃以內，即便食用油加熱至冒煙了，煙點也在２００－２５０℃之間。所以炒菜時特氟龍塗層是不會釋放出有毒物質的。另外，ＰＴＦＥ（特氟龍）可長期而穩定的在２６０攝氏度下工作，短期耐溫可至３２７度。歐美消費者的烹飪習慣一般以少油、中高溫等為主，更注重食材的原汁原味和營養價值，而國內消費者的烹飪習慣一般是以高油、煎炒、爆炒、高溫為主，因此同樣品質的不粘鍋在歐美使用的話壽命較長，而在國內使用的話壽命較短。
特氟龍塗層主要是氟聚合物，也是大家所說的“塑膠”，最初的成分是聚四氟乙烯，具有“塑膠王”的美稱，有耐化學腐蝕、耐老化的特點。聚四氟乙烯這種材料的產品一般統稱作“不粘塗層”；是一種使用了氟取代聚乙烯中所有氫原子的人工合成高分子材料。這種材料具有抗酸抗鹼、抗各種有機溶劑的特點，幾乎不溶於所有的溶劑。同時，聚四氟乙烯具有耐高溫的特點，它的摩擦係數極低，所以可作潤滑作用之餘，亦成為了不沾鍋和水管內層的理想塗料。