真空鍍膜機的操作程式

　　1、檢查真空鍍膜機各操作控制開關是否在關位置；

　　2、開啟總電源開關，裝置送電；

　　3、低壓閥拉出，開充氣閥，聽不到氣流聲後，啟動升鐘罩閥，鐘罩升起；

　　4、安裝固定鎢螺旋加熱子，把PVDF薄膜和鋁蓋板固定在轉動圓盤上，把鋁絲穿放在螺旋加熱子內，清理鐘罩內各部位，保證無任何雜質汙物；

　　5、落下鐘罩；

　　6、啟動抽真空機械泵；

　　7、開復合真空計電源；

　　真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD鐳射濺射沉積等很多種，主要思路是分成蒸發和濺射兩種。

　　真空鍍膜機：主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD鐳射濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。

　　原理：它由高壓部分和自動復位部分組成。高壓部分包括三相高壓變壓器，三相橋式整流，RC阻容吸收網路,高壓分壓器。自動復位部分包括主開關電路，電流檢測電路，柵壓切換電路，簾柵控制電路。

　　真空鍍膜時控制膜層厚度的方法有：

　　1、由時間和功率控制膜層的厚度：根據厚度等於時間乘以速率，改變功率以保證V接近常數，再透過時間來控制厚度；

　　2、石英晶體監控：監測晶振片的振動頻率，根據厚度與頻率的變化關係，計算當前厚度來控制；

　　3、光學監控：直接測量膜系的光學特性；

　　4、目測：肉眼觀測反射顏色來控制膜層厚度，誤差太大。