PVD真空鍍膜原理是什麼

　　目前常用的PVD有三種：真空蒸鍍、濺射鍍膜和離子鍍；它們的工作原理如下：1、真鍍空膜：是在適當的壓強下用電子束等熱源加熱材料使之蒸發，蒸發的原子或分子直接在工件表面形成沉積層；

　　2、濺射鍍膜：是不採用蒸發技術的物理氣相沉積方法，施鍍時，將工作室抽成真空，衝入氬氣做為工作氣體，並保持其壓力為0.13至1、33帕；

　　3、離子鍍：是在真空條件下，利用氣體放電使氣體或蒸發物質離子化，在氣體離子或蒸發物質離子轟擊作用下，把蒸發物質或其他反應物蒸鍍在工件上。

　　真空鍍膜機：主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD鐳射濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。

　　原理：它由高壓部分和自動復位部分組成。高壓部分包括三相高壓變壓器，三相橋式整流，RC阻容吸收網路,高壓分壓器。自動復位部分包括主開關電路，電流檢測電路，柵壓切換電路，簾柵控制電路。

　　真空鍍膜時控制膜層厚度的方法有：

　　1、由時間和功率控制膜層的厚度：根據厚度等於時間乘以速率，改變功率以保證V接近常數，再透過時間來控制厚度；

　　2、石英晶體監控：監測晶振片的振動頻率，根據厚度與頻率的變化關係，計算當前厚度來控制；

　　3、光學監控：直接測量膜系的光學特性；

　　4、目測：肉眼觀測反射顏色來控制膜層厚度，誤差太大。