真空鍍膜的鍍膜技術

　　1、大氣中的各種氣體對鍍膜來說是屬於雜質氣體，如果不抽真空在鍍膜過程中會和膜材料發生反應影響膜材料的純度，進而影響膜材料的各種理化效能；

　　2、如果不抽真空，會導致分子自由程過短，對蒸發鍍而言，會影響膜材料到達基片的能量，造成附著力低；對濺射鍍而言，會影響起電離效果和離子的濺射能量進而影響膜材料到達基片的能量和工藝電流電壓。

　　真空鍍膜技術是一種新穎的材料合成與加工的新技術，是表面工程技術領域的重要組成部分。

　　真空鍍膜技術是利用物理、化學手段將固體表面塗覆一層特殊效能的鍍膜，從而使固體表面具有耐磨損、耐高溫、耐腐蝕、抗氧化、防輻射、導電、導磁、絕緣和裝飾等許多優於固體材料本身的優越效能，達到提高產品質量、延長產品壽命、節約能源和獲得顯著技術經濟效益的作用。因此真空鍍膜技術被譽為最具發展前途的重要技術之一，並已在高技術產業化的發展中展現出誘人的市場前景。這種新興的真空鍍膜技術已在國民經濟各個領域得到應用，如航空、航天、電子、資訊、機械、石油、化工、環保、軍事等領域。

　　真空鍍膜時控制膜層厚度的方法有：

　　1、由時間和功率控制膜層的厚度：根據厚度等於時間乘以速率，改變功率以保證V接近常數，再透過時間來控制厚度；

　　2、石英晶體監控：監測晶振片的振動頻率，根據厚度與頻率的變化關係，計算當前厚度來控制；

　　3、光學監控：直接測量膜系的光學特性；

　　4、目測：肉眼觀測反射顏色來控制膜層厚度，誤差太大。