真空鍍膜機光學原理

　　真空鍍膜機：主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD鐳射濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。

　　原理：它由高壓部分和自動復位部分組成。高壓部分包括三相高壓變壓器，三相橋式整流，RC阻容吸收網路,高壓分壓器。自動復位部分包括主開關電路，電流檢測電路，柵壓切換電路，簾柵控制電路。

　　1、檢查真空鍍膜機各操作控制開關是否在關位置；

　　2、開啟總電源開關，裝置送電；

　　3、低壓閥拉出，開充氣閥，聽不到氣流聲後，啟動升鐘罩閥，鐘罩升起；

　　4、安裝固定鎢螺旋加熱子，把PVDF薄膜和鋁蓋板固定在轉動圓盤上，把鋁絲穿放在螺旋加熱子內，清理鐘罩內各部位，保證無任何雜質汙物；

　　5、落下鐘罩；

　　6、啟動抽真空機械泵；

　　7、開復合真空計電源；

　　真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD鐳射濺射沉積等很多種，主要思路是分成蒸發和濺射兩種。

　　目前常用的PVD有三種：真空蒸鍍、濺射鍍膜和離子鍍；它們的工作原理如下：1、真鍍空膜：是在適當的壓強下用電子束等熱源加熱材料使之蒸發，蒸發的原子或分子直接在工件表面形成沉積層；

　　2、濺射鍍膜：是不採用蒸發技術的物理氣相沉積方法，施鍍時，將工作室抽成真空，衝入氬氣做為工作氣體，並保持其壓力為0.13至1、33帕；

　　3、離子鍍：是在真空條件下，利用氣體放電使氣體或蒸發物質離子化，在氣體離子或蒸發物質離子轟擊作用下，把蒸發物質或其他反應物蒸鍍在工件上。