光刻技術的原理是什麼

　　光刻技術的原理：積體電路製造中利用光學、化學反應原理和化學、物理刻蝕方法，將電路圖形傳遞到單晶表面或介質層上，形成有效圖形視窗或功能圖形的工藝技術。

　　隨著半導體技術的發展，光刻技術傳遞圖形的尺寸限度縮小了2至3個數量級，已從常規光學技術發展到應用電子束、 X射線、微離子束、鐳射等新技術；使用波長已從4000埃擴充套件到 0.1埃數量級範圍。

　　1、光刻機制作晶片的過程，基本和“沖印照片”一樣。假設拍的是風景，膠片上會有曝光痕跡，先要在暗室裡顯影，讓風景在膠片上顯示出來。然後在紅光下透過放大機，把膠片上的風景投射到相紙上，讓相紙曝光。再透過相紙的顯影、定影、烘乾得到最終的照片。除了風景之外，“照片沖印”需要有膠片，有光源、放大機、相紙。

　　2、對光刻機來說，所謂“風景”就是設計好的積體電路圖（IC），“膠片”就是一塊石英板（光罩），用來記錄積體電路圖，“相紙”就是矽晶圓，“放大機”就相當於光刻機。

　　3、所不同的是，洗照片是放大，把小膠片放大到相紙上，光刻機是縮小，把電路圖縮小到晶圓上。

　　4、在光刻機領域，有三家國際大牌：荷蘭ASML（艾斯摩爾），日本Nikon（尼康），日本Canon（佳能）。但高階光刻機市場，荷蘭ASML是無可爭議的世界霸主，把第二名都甩得很遠，因為技術難度太高、需要的投資太大，尼康、佳能已經放棄EUV光刻機的研發。

　　1、光刻機制作晶片的過程，基本和“沖印照片”一樣。假設拍的是風景，膠片上會有曝光痕跡，先要在暗室裡顯影，讓風景在膠片上顯示出來。然後在紅光下透過放大機，把膠片上的風景投射到相紙上，讓相紙曝光。再透過相紙的顯影、定影、烘乾得到最終的照片。除了風景之外，“照片沖印”需要有膠片，有光源、放大機、相紙。

　　2、對光刻機來說，所謂“風景”就是設計好的積體電路圖（IC），“膠片”就是一塊石英板（光罩），用來記錄積體電路圖，“相紙”就是矽晶圓，“放大機”就相當於光刻機。

　　3、所不同的是，洗照片是放大，把小膠片放大到相紙上，光刻機是縮小，把電路圖縮小到晶圓上。

　　4、在光刻機領域，有三家國際大牌：荷蘭ASML（艾斯摩爾），日本Nikon（尼康），日本Canon（佳能）。但高階光刻機市場，荷蘭ASML是無可爭議的世界霸主，把第二名都甩得很遠，因為技術難度太高、需要的投資太大，尼康、佳能已經放棄EUV光刻機的研發。