1、難在它的製造精度，為了便於形象地解釋，光刻機制造晶片的過程就相當於“沖洗照片”。設計好的積體電路的電路圖相當於照片的“拍攝的內容”，晶圓就相當於“相紙”，光刻機的其它機構就相當於與照相機的“鏡頭機構”。
2、不同的是洗照片是將照片放大呈現到相紙上，製造晶片是將設計的積體電路微縮到晶圓上拇指大小的區域內，而且電路的投影精度達到了奈米量級。
3、光刻機的加工過程，光刻機技術發展已經發展到了紫外光階段，我們就以紫外光為例說明。光刻機加工晶片的過程簡單地講就是，光源提供的紫外光照射到刻著電路設計圖的掩模板上，紫外光透過掩模板後進入物鏡，物鏡將掩模板上的電路圖大比例的縮小後，將電路投影到矽片上，這樣矽片上就刻下設計好的電路圖，這個過程中曝光臺和測量臺處於聯動的狀態。
1、難在它的製造精度，為了便於形象地解釋，光刻機制造晶片的過程就相當於“沖洗照片”。設計好的積體電路的電路圖相當於照片的“拍攝的內容”，晶圓就相當於“相紙”，光刻機的其它機構就相當於與照相機的“鏡頭機構”。
2、不同的是洗照片是將照片放大呈現到相紙上，製造晶片是將設計的積體電路微縮到晶圓上拇指大小的區域內，而且電路的投影精度達到了奈米量級。
3、光刻機的加工過程，光刻機技術發展已經發展到了紫外光階段，我們就以紫外光為例說明。光刻機加工晶片的過程簡單地講就是，光源提供的紫外光照射到刻著電路設計圖的掩模板上，紫外光透過掩模板後進入物鏡，物鏡將掩模板上的電路圖大比例的縮小後，將電路投影到矽片上，這樣矽片上就刻下設計好的電路圖，這個過程中曝光臺和測量臺處於聯動的狀態。
1、首先，光刻機的透鏡，光源技術難度大，研發要求歷史和時間比較長。其實光刻機的發展歷史非常悠久，從90年代開始，發達國家就已經開始研究光刻機的相關技術。其中美國著名廠商asml負責研發，在硬體方面他們採用德國蔡司的透鏡。並且其他的相關硬體都來自於其他高科技國家。所以說光刻機技術不僅僅是一個國家就能夠研發出來的，它還需要全球不同的國家為其提供生產力和科技的支援。舉一個簡單的例子說明，美國生產的7奈米晶片，是利用光刻技術將資料整合到晶片上。並且在製作過程當中要非常嚴格地掌控光的大小。這遠比製作一個普通的相機要難，因為相機只需要控制光圈，而光刻機不僅僅是要控制光的大小，還要能夠利用光。
2、其次，光刻機的研發需要大量的資金支援，很多企業難以承擔高昂的研發費用。美國等發達國家研究光刻機，幾乎每年都有超過90個億的資金作為研發費用。到目前為止這些掌握光刻機技術的國家大約都花費了約4000億元。並且目前光刻機市場的老大asml幾乎可以說是整個光刻機技術的壟斷者。他們每年投入的研發費用，幾乎是某些世界500強企業的三個季度的收入。
3、最後，我國的光刻機技術剛起步，仍然面臨著許多難題需要攻克。從目前我國在相關行業發展歷史分析，只有上海微電子裝備和合肥芯碩半導體有限公司在研究光刻機方面取得了一定的進步。