什麼叫真空

　　真空鍍膜：是在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發並凝結於金屬、半導體或絕緣體表面而形成薄膜的一種方法，鍍膜在真空條件下成膜的優點是可減少蒸發材料的原子、分子在飛向基板過程中於分子的碰撞，減少氣體中的活性分子和蒸發源材料間的化學反應，以及減少成膜過程中氣體分子進入薄膜中成為雜質的量，從而提供膜層的緻密度、純度、沉積速率和與基板的附著力。

　　真空值是在絕對壓強小於大氣壓強情況下其不足大氣壓強的數值。

　　真空度是指處於真空狀態下的氣體稀薄程度。從真空表所讀得的數值稱真空度，真空度數值是表示出系統壓強實際數值低於大氣壓強的數值。

　　真空度是指一個空間內氣體分子數的密度比標準狀態下少，溼度通常是指氣態水分子的多少。空氣中除了氮和氧以外，還有其他氣體，水分是其中之一，通常溼度越大真空度越小，溼度大抽真空就不容易。

　　決定真空度大小有兩個因素：一個是真空泵本身能達到的極限真空度和抽速，一個是整個系統的洩漏量。由於任何物質由固態或液態轉化為氣態都需要能量，所以氣溫越高，分子運動越活躍，越易將其抽出。

　　真空淬火實際上就是一道淬火工藝，只是區別於傳統的零件在加熱過程中與空氣或鹽浴等介質接觸，從而出現氧化現象和較大的形變現象，真空淬火是將零件放置於真空爐中抽取真空進行加熱，因此氧化和形變均較小，這就是真空淬火最大的優勢。