蝕刻液,是一種銅版畫雕刻用原料,透過侵蝕材料的特性來進行雕刻。酸性氯化銅,工藝體系,根據新增不同的氧化劑又可細分為鹽酸氯化銅加空氣體系、鹽酸氯化銅加氯酸鈉體系、鹽酸氯化銅加雙氧水體系三種蝕刻工藝,在生產過程中透過補加鹽酸加空氣、鹽酸加氯酸鈉、鹽酸加雙氧水和少量的新增劑來實現線路闆闆的連續蝕刻生產。
蝕刻液,是一種銅版畫雕刻用原料,透過侵蝕材料的特性來進行雕刻。酸性氯化銅,工藝體系,根據新增不同的氧化劑又可細分為鹽酸氯化銅加空氣體系、鹽酸氯化銅加氯酸鈉體系、鹽酸氯化銅加雙氧水體系三種蝕刻工藝,在生產過程中透過補加鹽酸加空氣、鹽酸加氯酸鈉、鹽酸加雙氧水和少量的新增劑來實現線路闆闆的連續蝕刻生產。
蝕刻液的PH值應保持在8、0至8、8之間。溶液PH值的影響:
當PH值降到8、0以下時,一方面是對金屬抗蝕層不利,另一方面,蝕刻液中的銅不能被完全絡合成銅氨絡離子,溶液要出現沉澱,並在槽底形成泥狀沉澱;這些泥狀沉澱能在加熱器上結成硬皮,可能損壞加熱器,還會堵塞泵和噴嘴,給蝕刻造成困難,如果溶液PH值過高,蝕刻液中氨過飽和,遊離氨釋放到大氣中,導致環境汙染;另一方面,溶液的PH值增大也會增大側蝕的程度,而影響蝕刻的精度。
酸性蝕刻液,是一種銅版畫雕刻用原料。透過侵蝕材料的特性來進行雕刻。
主要成分:氯化銅、氨水、氯化氨,,補助成分為氯化鑽、氯化鈉、氯化胺或其它含硫化合物以改善特性。
適用領域:一般適用於多層印製板的內層電路圖形的製作及純錫印製板的蝕刻。
主要特點:蝕刻速率快,可達每分鐘70微米以上;溶銅能力高,蝕刻容易控制;蝕刻液能連續再生迴圈使用,成本低。
以酸性氯化銅蝕刻液為例。酸性氯化銅,根據新增不同的氧化劑又可細分為鹽酸氯化銅與空氣體系、鹽酸氯化銅與氯酸鈉體系、鹽酸氯化銅與雙氧水體系三種蝕刻工藝,在生產過程中透過補加鹽酸與空氣、鹽酸與氯酸鈉、鹽酸與雙氧水和少量的新增劑來實現線路闆闆的連續蝕刻生產。
影響蝕刻速率的因素:影響蝕刻速率的主要因素是溶液中氯離子、銅離子、亞銅離子的含量及蝕刻液的溫度等。